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OLED 소자로의 응용을 위한 ITO 전극의 Ar/O3 플라즈마 표면개질
Ar/O3 Plasma Treatment of ITO Substrates for Improvement of OLED Device Performance
초록
OLED(organic light-emitting diode)소자에 사용되는 ITO(Indium-Tin-Oxide) 전극에 Ar/O3 플라즈마 표면처리를 함으로써 ITO 전극에 표면상태의 개선에 좋은 영향을 미치는 것으로 나타났다. 13.56 MHz RF 플라즈마 장치를 이용하여 Ar/O3 플라즈마 처리한 후 AFM(Atomic Force Microscopy) 측정을 통해 표면 morphology/roughness를 분석하고, XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy) 분석을 통해 표면의 화학적 조성비 분석을 수행하였다.
- 제목
- OLED 소자로의 응용을 위한 ITO 전극의 Ar/O3 플라즈마 표면개질
- 제목 (타언어)
- Ar/O3 Plasma Treatment of ITO Substrates for Improvement of OLED Device Performance
- 저자
- PAIKKYUN SHIN
- 학회명
- 2004년도 대한전기학회 하계학술대회