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초록
Plasma etching of photoresist needs high etch rate, good uniformity and low damage in low cost. ICP asher is expected to satisfy these requirement for next generation semiconductor devices.
- 제목
- 유도결합형 플라즈마를 이용한 감광제제거반응로의 설계
- 제목 (타언어)
- Design of ICP ashing chamber
- 저자
- PARK SEGEUN
- 학회명
- 대한전자공학회 하계학술대회 논문집