플라즈마 이온 보조증착장비를 이용한 광통신용 이득평탄화 필터의 설계 및 제작

초록

이득 평탄화 필터(GFF)는 WDM광전송시 발생하는 손실을 증폭시키기 위해 사용하는 EDFA의 파장에 따른 이득값의 차이를 보정하기 위해 사용된다. GFF를 설계하기 위해서 고굴절률 물질과 저굴절률 물질을 교번으로 1/4파장 광학두께로 증착하는 고반사 코팅의 투과율이 높은 대역을 이용하였다. 고굴절률 물질로는 Ta2O5, 저굴절률 물질로는 SiO2를 사용하여 설계하였다. 총 층수 87층이며 총 두께 22μm인 GFF를 설계하였으며, 목표치와의 오차함수가 +/-0.2dB 이내를 만족하는 설계 결과를 얻었다. GFF는 플라즈마 이온 보조 증착장비(APS1104, Leybold)를 사용하여 증착하였으며, 다층 박막의 증착을 위해 Ta2O5와 SiO2박막의 증착조건에 따른 광학특성을 조사하였다. 박막의 증착시 광학두께 측정기를 사용하여 두께를 조절하였으며, QWOT및 non-QWOT의 다층 박막을 증착하여 GFF증착에 적용하였다.