Tb 첨가가 a-Si 박막의 나노구조 및 광학적 특성에 미치는 영향

초록

스퍼터기법을 이용하여 제조되는 a-Si 박막의 정밀한 나노구조 제어기법은 광특성과 상관하여 최근에 많은 연구가 진행되고 있다. 특히 희토류 원소가 첨가된 a-Si 박막의 광학적 특성에 대한 관심이 급증하고 있는데, 이는 희토류 원소 Tb을 도핑시킨 Tb:Si 박막이 Tb의 독특한 전자구조에 의하여 특정 가시광 영역에서 나타내는 발광현상 때문이다. 이러한 Tb:Si 박막의 발광현상은 박막 내 Tb 첨가량 및 나노구조에 기인하는 것으로 여겨진다. 본 연구에서는 고주파 마그네트론 스퍼터 기법을 이용하여 Tb:Si 박막을 제조하였다. 공정변수에 따른 박막의 화학조성 및 미세구조를 분석하였으며, 광학적 특성과의 상관관계를 고찰하였다.