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초록
AlN은 우수한 열전도성과 전기절연성을 가지고 있으나, 소결이 어려우며, 공기 중의 수분과 반응하여 가수분해되는 결점을 가지고 있다. 이러한 AlN을 소결하기 위해서는 그래파이트, Spark plasma 및 마이크로웨이브 소결로를 이용한 다양한 방법이 사용되어 왔다. 마이크로 웨이브 소결은 짧은 시간에 고온에 도달하므로 소결시간을 단축할 수 있고, 에너지 절감에 유리하여 최근 많은 연구가 되고 있다. 본 연구에서는 후막공정에 의해 제조된 AlN 기판의 소결특성 향상 및 산화를 억제하기 위하여 AlN에 희토류 산화물 (Dy2O3, Y2O3, Sm2O3)을 1, 3, 5 wt.% 첨가한 조성의 샘플을 마이크로웨이브 소결로로 소결하여 소결특성 및 열전도도를 조사하였다. AlN 슬러리의 제조는 후막성형 sheet의 강도, 접착성등을 고려하여 바인더 배합비를 Powder/Binder = 6/4, 5/5, 4/6 3종류의 중량비로 하였다. 분산 및 분쇄를 위하여 24시간 ball mill을 실시한 후, 24시간 에이징 하였으며, 이렇게 제조된 슬러리를 Comma coater를 이용하여 24㎛으로 성형하였다. AlN소결은 후막성형으로 AlN시편을 10*10*1㎜의 크기로 성형하여 마이크로웨이브 소결로를 사용하여 Al2O3 및 BN 도가니에 넣고 소결하였다. 또한 시편의 위치에 따라 소결상태가 다른 문제점이 발생되었으나, 공정조건 및 소재의 조성 개선을 통하여 양호한 소결특성을 갖는 AlN 기판이 제조되었다.
- 제목
- Microwave Sintering of AIN Substrate Doped Rare Earth Ions
- 제목 (타언어)
- 희토류 이온이 첨가된 AlN 기판의 마이크로웨이브 소결
- 저자
- KO TAE GYUNG
- 학회명
- 2011년 한국세라믹학회 춘계연구발표회
- 개최지
- 경기도 수원시 경기대학교
- 학회 개최일
- 2011-04-21 ~ 2011-04-22