Computer 시뮬레이션을 이용한 광 리소그래피

초록

컴퓨터를 이용한 수치해석 과정을 통해 optical lithography 결과를 예측하고, 공정을 최적화 또는 process margin을 확대하며, 고안된 공정의 타당성을 검증할 목적에서 1980년대부터 optical lithography simulation은 반도체 제조업계로부터 큰 관심을 받아왔으며, 여러 가지 상용 simulator가 개발 보급되어 반도체 공정 개발에 직접적으로 활용되어 왔다. 일반적으로 optical lithography simulation은 그림 1과 같이 aerial image simulation, exposure simulation, bake simulation, 그리고 development simulation으로 구성된다. Aerial image simulation은 반도체 웨이퍼(wafer) 위에 형성되는 mask의 상(image)을 예측하며, exposure simulation은 노광의 결과로 포토레지스트(photoresist)에 형성되는 잠상(latent image)를 예측한다. 그리고 bake simulation과 development simulation은 post-exposure bake 공정의 결과와 최종적으로 포토레지스트를 현상한 이후의 결과를 예측하게 된다