고밀도 산소플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구

Photoresist stripping by a high density oxygen plasma
  • PARK SEGEUN

초록

고밀도 저에너지 플라즈마를 발생하는 헬리컬 유도결합형 애셔를 제작하여 감광제 식각공정에 적용하였다. Langmuir probe로 측정한 산소이온 논도가 10E12 /cm3정도로 높았으며 optical emission spectrum에 의해 관찰된 산소 래디컬 농도도 매우 높았다.

제목
고밀도 산소플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구
제목 (타언어)
Photoresist stripping by a high density oxygen plasma
저자
PARK SEGEUN
학회명
대한전자공학회 추계학술대회 논문집