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초록
Dry etching of RuO2 tilms has been investigated by Helical ICP etcher. Etch rates of RuO2 and PECVD oxide have been monitored for various process conditions.
- 제목
- 류시늄옥사이드 박막의 건식식각
- 제목 (타언어)
- ICP Etching of RuO2 Thin Films
- 저자
- PARK SEGEUN
- 학회명
- 제4회 한국반도체학술대회 논문집