ScholarWorks@인하대학교
조직
연구자
연구성과
저널
English
상세 보기
주기적인 축방향 자기장을 추가한 유도결합형 플라즈마 장치에서의 감광제 제거공정 개발
Development of photoresist ashing process in an ICP with priodic axial magnetic field
PARK SEGEUN
Citation
APA
CHICAGO
MLA
VANCOUVER
IEEE
HARVARD
Export
XML (DC)
EXCEL
제목
주기적인 축방향 자기장을 추가한 유도결합형 플라즈마 장치에서의 감광제 제거공정 개발
제목 (타언어)
Development of photoresist ashing process in an ICP with priodic axial magnetic field
저자
PARK SEGEUN
학회명
전자공학회 하계학술대회
더보기