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O2와 N2 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구

LEE EL HANG

초록

Photoresist ashing was studied striping and trimming rate in O2 and N2 plasma.

제목: O2와 N2 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구

저자: LEE EL HANG

학회명: 대한전자공학회 하계학술대회 2009

개최지: 제주시

학회 개최일: 2009-07-08 ~ 2009-07-10