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초록
본 논문에서는 반도체 단위공정 중 플라즈마 식각공전에 대한 모델링을 수행하여, 웨이퍼 표면의 토포그래피 진화를 모의 실험할 수 있는 3차원 토포그래피 시뮬레이터에 대한 연구 결과를 보고한다. 웨이퍼 표면의 진화를 수학적으로 구현하기 위하여 셀제거 알고리즘이 적용되었으며, 마스크의 기하학적 형상에 따라 나타나는 그림자 효과 및 가시도 계산 알고리즘과 스필오버 알고리즘을 개발하였다.
- 제목
- 플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
- 제목 (타언어)
- Development of Three-dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process
- 저자
- WON TAEYOUNG
- 학회명
- 대한전자공학회 추계종합학술대회 논문집