고주파 마그네트론 스퍼터 기법을 이용하여 제조된 nc-Si 박막의 구조적, 광학적 특성

초록

본 연구에서는 고주파 마그네트론 스퍼터 기법을 이용하여 nc-Si 박막을 제조하였다. 낮은 차원의 nc-Si 박막을 만들기 위하여 증착시 산소가스를 주입하였다. 산소의 유속변화와 기판의 온도변화, 그리고 증착후 열처리에 따른 박막의 영향을 확인하였고, 박막의 화학적, 물리적 성질에 대해 고찰하였다. 박막 내 화학적 특성은 XPS, IR 등을 이용하여 분석하였고, 나노구조 분석은 XRD, HRTEM 등을 이용하였다.