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초록
본 논문에서는 차세대 반도체 메모리 제조 기술 중 핵심 기술에 해당하는 열산화 기술로 제작하는 LOCOS의 미세 3차원 형상을 컴퓨터 모의 실험을 통하여 예측할 수 있도록 유한요소법을 적용 한 수치 해석기를 개발하였다.
- 제목
- 열 산화막 성장의 스트레스 의존성에 관한 연구
- 제목 (타언어)
- Stress Effect of Thermal Oxidation
- 저자
- WON TAEYOUNG
- 학회명
- 한국전기전자재료학회 추계학술대회 논문집
본 논문에서는 차세대 반도체 메모리 제조 기술 중 핵심 기술에 해당하는 열산화 기술로 제작하는 LOCOS의 미세 3차원 형상을 컴퓨터 모의 실험을 통하여 예측할 수 있도록 유한요소법을 적용 한 수치 해석기를 개발하였다.