Optical and physical properties of TiO2 and MgF2 thin films by plasma ion assisted deposition

Optical and physical properties of TiO2 and MgF2 thin films by plasma ion assisted deposition
  • CHANG KWON HWANGBO

초록

본 연구에서는 광학박막에서 고굴절률 물질과 저굴절률 물질로 사용되는 와 단층 박막을 플라즈마 이온 보조 증착 방법과 보통 방법으로 각각 증착하고 그 광학적 물리적 특성을 비교하였다. 또한 박막을 증착하는 동안 기판의 온도를 로 가열하여 증착한 박막을 함께 비교하였다.

제목
Optical and physical properties of TiO2 and MgF2 thin films by plasma ion assisted deposition
제목 (타언어)
Optical and physical properties of TiO2 and MgF2 thin films by plasma ion assisted deposition
저자
CHANG KWON HWANGBO
학회명
한국물리학회 2003년도 가을 학술논문발표회