타원계을 사용하여 제작한 이온빔 보조 박막의 특성 분석

초록

광학박막을 제작하는 많은 방법 중에서 이온빔 보조 증착방법은 이온빔을 사용해 박막에 운동량을 전달하여 주고 반응 이온빔의 산화를 촉진시켜주는 장점이 있으며, 스퍼터링은 증착입자의 에너지가 높아서 조밀하한 박막을 제작할 수 있다. 그러나 단점으로 이온빔 보조 증착의 경우 증착입자가 낮은 에너지를 갖으며, 높은 에너지를 사용하는 경우 고가의 장비가 필요하게 된다. 그리고 스퍼터링의 경우 잔은 압력하에서 증착됨으로 증착률이 낮다. 따라서 이 두 방법의 장점을 이용하고 단점을 상호 보안하여 새로운 이온빔보조 스퍼터링 방법을 사용하여 박막을 제작 조밀도가 높고 외부 환경의 변화에 안정한 다층박막을 증착하여 분석하려 한다.