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Stress Induced Leakage Current Characteristic of La-Incorporated HfO2 Gate Dielectric
- 제목
- Stress Induced Leakage Current Characteristic of La-Incorporated HfO2 Gate Dielectric
- 저자
- RINO CHOI
- 학회명
- 제21회 한국반도체학술대회
- 개최지
- 한양대학교
- 학회 개최일
- 2014-02-24 ~ 2014-02-26