초음파를 이용한 전해 알루미늄 에칭시 에치핏트의 형성 및 성장

초록

전기화학 system에서 초음파의 효과는 전극과 전극 계면에서 cleaning, mass transport 및 열적 효과의 활성화 에너지로 고려되어지며, 특히 초음파에 의해 발생되어지는 cavitation효과는 전극과 전극 계면에서 물질전달 효과를 활성화시킴으로써 전극 표면의 반응을 증대 시킬수 있다. 알루미늄 전해커패시터의 정전용량은 양극박의 표면적에 의해 정전용량이 크기가 결정되어 진다. 따라서 양극박의 표면적 확대가 커패시터의 정전용량 중가에 가장 큰 영향을 준다. 양극박은 고순도 알루미늄을 전기화학적으로 에칭하여 알루미늄을 선택적으로 용해함으로써 표면적을 증가시ㅣㅋ고 그 위에 유전체 피막을 입혀 제조하고 있다.