Remote plasma ashing chamber에서 유동해석 시뮬레이션과 Ashing 공정의 균일도 상관관계

초록

반도체 산업 발전과 더불어 장비 산업의 중요성이 점점 높아지고 있다. 예전에 칩 제조업체가 주도하던 많은 기술 개발들을 장비 업체가 주도하게 되는 일이 점차 늘어나고 있다. 1~2년을 주기로 빠르게 변화하는 소자의 특성에 발맞추기 위해 평균 1년 정도의 짧은 제품개발 기간이 요구되고 있다. 그러나 반도체 장비개발의 정확 한 분석 및 최적화 과정은 복잡성, 고비용, 저효율 등의 제약으로 인해 막대한 연구 시간과 연구비가 소모된다. 이에 CVD, etch, spin coater 등 반도체 공정 장비 개발에 시뮬레이션 개념이 도입되면서 고효율, 저비용의 효과를 얻고 있다.