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O2와 N2 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구

  • LEE SEUNG GOL

초록

Photoresist ashing was studied striping and trimming rate in O2 and N2 plasma.

제목
O2와 N2 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
저자
LEE SEUNG GOL
학회명
2009 하계종합학술대회

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