대면적 기판용 2×2 Helical Resonator 플라즈마 소스에 관한 연구

초록

반도체 제조용 기판 및 평판 표시기용 기판의 크기가 증가함에 따라 넓은 영역에서 균일하게 식각이 되기 위한 대면적 Plasma Source가 많이 연구되고 있다. 본 연구진은 2×2형태의 Helical Resonator를 병렬로 배열한 Plasma Source를 제작하여 그 특성을 분석하였다. 각각의 Bell-jar 형태 유전체에 감겨 있는 Helical-coil의 한쪽 끝은 접지를 시키고 다른 끝은 개방시켰으며 RF 전달을 위한 tab은 coil 양단 사이에서 그 위치를 변화시킬 수 있게 하였다. 4개의 Source는 하나의 RF 전원과 연결시켰고 각각 tab의 위치를 변화시켜 공명이 일어나는 위치를 찾았으며 공정 조건에 따른 공명 조건의 미세한 변화는 하나의 Matching box를 이용하여 교정하였다. 625×625㎟의 대면적 Chamber에서 Langmuir probe로 Ar Plasma를 진단하여 Plasma 밀도와 균일도의 향상을 확인하였다. O2 Plasma로 감광제 식각을 수행하여 균일해진 식각 결과를 얻었다.