새로운 MOCVD 전구체를 이용한 Ta2O9와 Nb2O5 박막

Ta2O5 and Nb2O5 Films Produced by New MOCVD Precursors
  • LEE WAN IN

초록

새로이 합성한 MOCVD 전구체인 Ta(N-alkoxy-b-ketoiminate)(OEt)3 및 Nb(N-alkoxy-b-ketoiminate)(OEt)3 를 이용하여, Ta2O5와 Nb2O5 박막을 제조하였다. 기존의 전구체인 Ta(OEt)5 또는 Nb(OEt)5에 비해 증착효율이 7배가량 높았으며, 박막의 품질 또한 우수하였다.

제목
새로운 MOCVD 전구체를 이용한 Ta2O9와 Nb2O5 박막
제목 (타언어)
Ta2O5 and Nb2O5 Films Produced by New MOCVD Precursors
저자
LEE WAN IN
학회명
대한화학회 제85회 총회 및 학술발표회