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전기화학적 에칭법을 이용한 나노 다공성 실리콘의 식각율

Etch rate of nanoporous silicon prepared by electrochemical anodic etching
  • PARK SEGEUN
제목
전기화학적 에칭법을 이용한 나노 다공성 실리콘의 식각율
제목 (타언어)
Etch rate of nanoporous silicon prepared by electrochemical anodic etching
저자
PARK SEGEUN
학회명
Photonics Conference 2006

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