극자외선 리소그래피용 마스크 흡수체 개발을 위한 새로운 혼합 물질들의 13.5 nm 파장에서의 광학적 특성 연구

  • CHANG KWON HWANGBO
제목
극자외선 리소그래피용 마스크 흡수체 개발을 위한 새로운 혼합 물질들의 13.5 nm 파장에서의 광학적 특성 연구
저자
CHANG KWON HWANGBO
학회명
한국광학회 2011년도 하계학술발표회
개최지
부산, BEXCO
학회 개최일
2011-07-14 ~ 2011-07-15