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초록
본 실험에서 제조된 다공질 실리콘은 HF(48%):C2H5OH: H2O=1:2:1(vol) 혼합액을 전해질 용액으로 사용하여 전기 화학적 에칭 방법에 의해 제조되었다. 반응기의 온도를 40oC의 온도로 유지시키고 10-100 mA/cm2의 전류밀도에서 5, 7, 10 분 동안 시행되었다. 제조된 PS을 공기중에서 자연산화시켰고 산화정도에 따른 구조 및 광학적 특성을 분석하여 고찰하였다.
- 제목
- 에칭 및 산화조건에 따른 다공질 실리콘의 구조적, 광학적 특성
- 제목 (타언어)
- Effect of etching and aging conditions on the structural, chemical and optical features of porous silicon
- 저자
- CHO NAMHEE
- 학회명
- 2002 한국세믹학회 (추계총회 및 연구발표회)