E-ICP 의 에너지 흡수 특성 및 주파수 의존성 연구

초록

현재 반도체 공정에서 대면적, 고밀도 플라즈마 소스의 필요성이 증대됨에 따라 이에 대한 연구가 활발히 진행되고 있으며, 다양한 플라즈마 소스가 제안되어 식각공정에서 사용되고 있다. 특히 플라즈마의 이온 밀도와 균일도 면에서 매우 우수한 특성을 보이고 있는 ICP에 축방향의 시변 먁 자기장을 인가함으로써 높은 이온 밀도 및 매우 우수한 식각 특성을 나타내는 E-ICP를 개발하였다. 본 놈눔에서는 개선된 플라즈마의 특성을 나타내고 있는 E-ICP의 특성을 Langmuir Prove를 이용하여 진단하였으며, 인가되는 시변 약 자기장의 주파수 변화에 따른 플라즈마의 특성을 측정하여 E-ICP의 에너지 흡수 성향을 관찰할 수 있었으며, E-ICP의 공정 조건의 최적화를 위한 자기장의 크기 및 시변 자기장의 주파수 특성을 파악하였다.