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"E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO2/Si) Capacitor의 plasma Etching Damage 연구,"

  • PARK SEGEUN
제목
"E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO2/Si) Capacitor의 plasma Etching Damage 연구,"
저자
PARK SEGEUN
학회명
2007하계종합학술대회

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