다양한 에칭조건과 산화상태에 따라 제조된 나노기공성 실리콘의 구조적-광학적 특성

초록

본 연구에서는 NPS를 HF 용액에서 anodic 에칭에 의해 준비하였으며 산화상태와 에칭시간에 따라 제조되었다. 이들의 구조적 특성, 광학적 특성, 화학적 특성을 조사하기 위해서 SEM, HRXRD, XPS, PL, FT-IR spectroscopy, AFM, BET, 그리고 TEM을 사용하였다. 이들 결과로부터 pore 크기, 분포, 및 SiOx 양과 발광현상의 상관관계를 고찰하였다.