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전기화학적 에칭법을 이용한 나노 다공성 실리콘의 식각율
Etch rate of nanoporous silicon prepared by electrochemical anodic etching
- 제목
- 전기화학적 에칭법을 이용한 나노 다공성 실리콘의 식각율
- 제목 (타언어)
- Etch rate of nanoporous silicon prepared by electrochemical anodic etching
- 저자
- O BEOM HOAN
- 학회명
- Photonics Conference 2006