PECVD 기법을 이용하여 제조된 나노결정 Si 박막의 나노구조 및 광학적 특성

초록

본 연구에서는 PECVD를 이용하여 반응가스, 기판온도, RF 전력 등의 공정변수에 따라 nc-Si 박막을 제조하였다. 공정변수에 따른 박막의 나노구조를 분석하였으며, 박막의 광학적 특성과의 상관관계를 고찰하였다.