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- 제목
- Optical performance of extreme ultraviolet lithography mask with tin telluride absorbing layer
- 저자
- CHANG KWON HWANGBO
- 학회명
- The 7th international conference on advanced materials and devices (ICAMD 2011)
- 개최지
- 라마다 제주 프라자 호텔
- 학회 개최일
- 2011-12-07 ~ 2011-12-09