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Cl2 가스 기반의 실리콘 식각에서 Ar 가스 첨가에 따른 특성

Characteristics of chlorine based plasma etch for Si
제목
Cl2 가스 기반의 실리콘 식각에서 Ar 가스 첨가에 따른 특성
제목 (타언어)
Characteristics of chlorine based plasma etch for Si
저자
O BEOM HOAN
학회명
Photonics Conference 2007

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