플라즈마 식각 공정을 통한 무반사 블랙 실리콘 층의 제작

  • PARK SEGEUN

초록

Many texturing techniques for fabricating antireflective silicon surfaces have been proposed, including mechanical diamond saw cutting, optical interference lithography, wet etching using catalysis of metal, and reactive ion etching,

제목
플라즈마 식각 공정을 통한 무반사 블랙 실리콘 층의 제작
저자
PARK SEGEUN
학회명
Photonics Conference 2009