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초록
본 연구에서는 NPS(nanoporous silicon)를 HF용액에서 anodic 에칭에 의해 준비하였으며 산화상태와 에칭시간에 따라 제조하였다. 이들의 구조적 특성, 광학적 특성, 화학적 특성을 조사하기 위해서 SEM, XRD, XPS, PL, FT-IR spectroscopy, AFM, 그리고 TEM을 사용하였다. 이들 결과로부터 pore 크기, 분포 및 SiOx 양과 발광현상의 상관관계를 고찰하였다.
- 제목
- Anodic 에칭에 의해 제조된 p-type porous silicon의 나노구조와 광학적 특성
- 제목 (타언어)
- Nanostructural and optical characteristics of p-type porous silicon prepared by anodic etching
- 저자
- CHO NAMHEE
- 학회명
- 2000년도 추계 한국 세라믹학회 연구발표집