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MEMS 공정 시뮬레이션을 위한 레이저 미세가공 파라미터 구축
Laser microfabrication parameter building for MEMS process simulation
초록
본 연구는 MEMS용 전극에 이용 가능한 ITO를 패터닝 하기 위해 펄스형의 KrF 엑시머를 이용하여 ITO 가공 파라미터를 구축 하며 여러 형태의 형상을 레이저에 의해 흡수한다. 따라서 적은 에너지 밀도의 248 nm 파장의 KrF 엑시머 레이저 광을 조사해도 ITO는 영향을 받는다. ITO의 패터닝을 위한 가공 임계에너지 밀도는 약 0.1 J/cm2 이며, 주변과 완전히 절연된다.
- 제목
- MEMS 공정 시뮬레이션을 위한 레이저 미세가공 파라미터 구축
- 제목 (타언어)
- Laser microfabrication parameter building for MEMS process simulation
- 저자
- CHEON LEE
- 학회명
- ITRC Forum 2001