전자파 장해 차폐를 위한 저저항 투명전도성 다층박막의 제작

초록

투명 전도성 박막은 저방출 코팅, 평판디스플레이의 투명전극, 디스플레이 패널의 전자파 장해 차폐 등의 넓은 영역에서 사용되고 있다. 이와 같은 투명 전도성 박막은 가시광선 영역의 투과율이 높아야 하며, 동시에 전기 전도성이 높아야한다. 디스플레이에 사용할 수 있는 전도성 박막을 [산화물-금속-산화물-금속-산화물]구조로 설계하였다. 가시광선영역의 투과율을 높이기 위해 무반사 설계를 하였으며, 전도성을 향상시키기 위해 금속층을 사용하였다. 또한, 산화방지막을 증착하여 금속층이 산화되지 않게 하였다. 산화물로는 TiO2와 ITO를 사용하였고, 금속물질은 Ag를 사용하여 RF 마그네트론 스퍼터링 장비로 다층박막을 증착하였다. ITO와 Ag를 사용한 구조는 가장 간단하며 전도 특성이 가장 우수한 결과를 보였다. 그러나 ITO 박막의 특성상 가시광선영역의 투과대역이 TiO2와 Ag를 사용한 구조에 비해 좁고 투과율도 낮게 나타났다. TiO2와 Ag를 사용하고 산화방지막으로 ITO를 사용한 구조에서는 면저항은 2Ω/□ 이하이고, 가시광선영역(380~780 nm)의 투과율은 더욱 증가하였으며 75%의 투과율을 보였다. 또한 적외선의 차단특성도 우수하게 나타났다.