평판형 22 배열 구조 ICP의 능동적 임피던스 조절과 식각율 향상

초록

대면적 평판 디스플레이의 가공을 위해서 넓은 영역에서 고품위 플라즈마를 균일하게 생성하는 것이 중요해지고 있고 플라즈마의 균일도를 향상시키기 위한 많은 노력이 행해지고 있다. 본 연구진은 단위 ICP 소스를 22로 병렬 배열한 625625mm 크기의 대면적 소스를 제작하고 각 단위 소스의 임피던스를 변화시킬 수 있게 하여 RF파워의 균등분배를 가능하게 하였고 소스간의 불균형 문제를 해결하였다. 플라즈마 밀도 분포를 Langmuir probe를 사용하여 측정하였다. 여기에 Enhanced ICP개념인 균일한 주기적인 시변 자기장을 축방향으로 가하여 350300mm 크기의 glass 기판상에서 감광제 식각 실험을 하여 높은 식각율과 균일도의 향상을 확인하였다.