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Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Ru Thin Films Using CH4/O2/Ar Gas Mixture
- 제목
- Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Ru Thin Films Using CH4/O2/Ar Gas Mixture
- 저자
- CHUNG CHEE WON
- 학회명
- 제22회 한국 반도체 학술대회
- 개최지
- 인천송도컨벤시아
- 학회 개최일
- 2015-02-10 ~ 2015-02-12