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Influence of pulsed-modulated RF source plasma on etch characteristic of nanoscale patterned copper thin film using CH3COOH/Ar
- 제목
- Influence of pulsed-modulated RF source plasma on etch characteristic of nanoscale patterned copper thin film using CH3COOH/Ar
- 저자
- CHUNG CHEE WON
- 학회명
- 제27회 한국반도체 학술대회
- 개최지
- 강원도 하이원리조트
- 학회 개최일
- 2020-02-12 ~ 2020-02-14