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Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas
- 제목
- Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas
- 저자
- CHUNG CHEE WON
- 학회명
- 2015년 한국화학공학회 춘계학술대회
- 개최지
- 제주국제컨벤션센터
- 학회 개최일
- 2015-04-22 ~ 2015-04-24